JEOL場發射電子顯微鏡
價 格：詢價
產 地：更新時間：2021-01-18 15:19
品 牌：型 號：JEM-3200FS
狀 態：正常點擊量：1313
400-006-7520
聯系我時，請說明是在上海非利加實業有限公司上看到的，謝謝！
聯 系 人：
上海非利加實業有限公司
電 話：
400-006-7520
傳 真：
400-006-7520
配送方式：
上海自提或三方快遞
聯系我時請說在上海非利加實業有限公司上看到的,謝謝！
產品詳情
JEM-3200FS 場發射透射電子顯微鏡
JEM-3200FS場發射電子顯微鏡配備了加速電壓為300kV的場發射電子槍（FEG）和鏡筒內置式Ω型能量過濾器，能為廣泛的研究領域提供各種全新的解決方案。
產品規格：
| 物鏡極靴*1 | 超高分辨UHR | 高分辨率HR | 高傾斜HT | 高襯度HC |
| 分辨率 |
| 點分辨率
晶格分辨率 | 0.17nm
0.1nm | 0.19nm
0.1nm | 0.21nm
0.1nm | 0.26nm
0.14nm |
| 能量分辨率 | 0.9 eV（零損失FWHM） |
| 加速電壓 | 300kV，200kV,100kV*2 |
| *小步長
能量位移 | 100V
3,000V (以0.2V為步長) |
| 電子槍 |
| 發射體 | ZrO/W(100) 肖特基式 |
| 亮度 | R7×108 A/cm2 ・ sr |
| 真空度 | 3×10-8Pa |
| 探針電流 | 探針直徑為1nm時，電流在0.5nA以上 |
| 穩定度 |
| 加速電壓 | 2×10-6/min |
| 物鏡電流 | 1×10-6/min |
| 過濾器透鏡電流 | 1×10-6/min |
| 物鏡 |
| 焦距 | 2.7 mm | 3.0 mm | 3.5 mm | 3.9 mm |
| 球差系數 | 0.6 mm | 1.1 mm | 1.4 mm | 3.2 mm |
| 色差系數 | 1.5 mm | 1.8 mm | 2.2 mm | 3.0 mm |
| *小焦距步長 | 1.0 nm | 1.4 nm | 1.5 nm | 4.1 nm |
| 束斑尺寸 |
| TEM 模式 | 2 ～ 5 nmφ | 2 ～ 5 nmφ | 7 ～ 30 nmφ |
| EDS 模式 | 0.4 ～ 1.6 nmφ | 0.5 ～ 2.4 nmφ | 4 ～ 20 nmφ |
| NBD 模式 | 0.4 ～ 1.6 nmφ | 0.5 ～ 2.4 nmφ | - |
| CBD 模式 | 0.4 ～ 1.6 nmφ | 0.5 ～ 2.4 nmφ | - |
| 電子束衍射 |
| 衍射角(2α) | 1.5 t～ 20 mrad | - |
| 取出角 | ±10 ° | - |
| 倍率 |
| MAG 模式 | ×2,500 ～ 1,500,000 | ×2,000 ～ 1,200,000 | ×1,500 ～ 1,200,000 |
| LOW MAG 模式 | ×100 ～ 3,000 |
| SA MAG 模式 | ×8,000 ～ 600,000 | ×6,000 ～ 500,000 | ×5,000 ～ 500,000 |
| 視野 | 10eV時狹縫寬度60mm(底片上)
2eV時狹縫寬度25mm(底片上) |
| 相機長度 |
| 選區電子衍射 | 200 ～ 2,000 mm | 250 ～ 2,500 mm | 400 ～ 3,000 mm |
| EELS 散射 |
| 能量選擇
在能量選擇狹縫上 | 0.85 μm/eV , 300 kV |
| 底片上 | 100 ～ 220 μm/eV , 300kV |
| 樣品室 |
| 樣品移動范圍 (XY/Z) | 2mm/0.2mm | 2mm/0.4mm | 2mm/0.4mm | 2mm/0.4mm |
| 樣品傾斜角 (X/Y) | ±25°/±25°*3 | ±35°/±30°*3 | ±42°/±30°*3 | ±38°/±30°*3 |
| EDS*4 |
| 固體角 | 0.13 sr | 0.09 sr |
| 取出角 | 25° | 20° |
產品特點：
· JEM-3200FS場發射電子顯微鏡配備了加速電壓為300kV的場發射電子槍（FEG）和鏡筒內置式Ω型能量過濾器，能為廣泛的研究領域提供各種全新的解決方案。
· 鏡筒內置式Ω型能量過濾器(omega 過濾器)
· 鏡筒內置式Ω型能量過濾器內置于成像透鏡系統，能容易地獲得能量過濾像和能量損失譜，同時還能獲得與傳統電子顯微鏡同等的放大倍率范圍。此外、Ω型過濾器的電子光學系統在設計上程度地減少了圖像畸變，出廠前還將剩余***點的畸變做了*后的修正。JEM-3200FS還采用了高靈敏度的相機系統及圖像處理系統（選配件），可以構建元素面分布系統及能量損失譜系統。
· 新型控制系統
· 電子槍、電子光學系統、測角臺、抽真空系統等電子顯微鏡基本功能的系統化，實現了高穩定、高性能的控制系統。圖像畫面和用戶界面 采用Windows ®*1，可以進行編程操作和附件的集中控制。
· 新型測角臺
· 系統化的新型測角臺內置壓電陶瓷驅動機構，使高倍率下的樣品移動更加精確。*2.
· *1 : 注意事項：Windows是微軟公司在美***和其他******的注冊商標。
*2 : 僅有壓電元件包括在基本單元中，壓電元件的電源為選配件。
滬公網安備31011502016460號
