1.設備簡介
該設備是***款小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設備體積小，結構簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低；該系列設備主要部件采用進口或者***內*優的配置，從而提高設備的穩定性；另外自主開發的智能操作系統在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。
該設備標配2只Φ2英寸永磁靶，***臺500W直流濺射電源（用于濺射金屬導電材料），1臺300W全自動匹配射頻濺射電源（用于濺射絕緣材料），主要用來開發納米***單層及多層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。
2.主要技術參數
2.1 腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼材質，氬弧焊接；
2.2 樣品臺尺寸：Ф100mm，高度：60～120mm可調，旋轉：0-20r/min可調；可加熱至300℃；
2.3 真空系統：機械泵（TRP-12,3L/S）+進口Pfeiffer分子泵(Hipace80,67L/s)；GDC-25b電磁擋板閥，DN63mm 限流閥；
2.4 極限真空：8.0×10-5Pa；
2.5 真空抽速：大氣～8×10-4Pa ≤ 30min；
2.6 真空測量：全量程復合真空計，測量范圍：105Pa～10-5Pa；
2.7 磁控靶：Φ2英寸2只（含靶擋板），兼容直流電源和射頻電源；
2.8 濺射電源：1臺500W直流濺射電源和1臺300W全自動匹配射頻電源；
2.9 質量流量計：進口20sccm、50sccm質量流量控制器各***套；
2.10 膜厚控制系統：進口Inficon SQM-160單水冷探頭，精度0.1?（選配）；
2.10控制方式：PLC+觸摸屏智能控制系統，具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養維護提示等功能；
2.11設備外形：L60cm×W60cm×H96cm機電***體化機架，預留1個CF35法蘭接口；
2.12 設備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制（***火***零***地）；
2.13 冷卻循環系統：水壓0.2～0.4MPa，水溫10～25℃，給設備相關需水冷部件提供穩定的制冷水；
3.設備主要配置表
真空腔室 | Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti優質不銹鋼 |
分子泵 | 進口Pfeiffer分子泵 |
前***泵 | 機械泵，北儀優成 |
真空規 | 全量程真空規，上海玉川 |
濺射靶 | Ф2英寸永磁靶2支（含靶擋板），維意真空 |
濺射電源 | 500W直流濺射電源1臺，300W全自動匹配射頻電源1臺 |
流量計 | 20sccm/50sccm進口WARWICK |
控制系統 | PLC+觸摸屏智能控制系統1套，維意真空 |
冷水機 | LX-300，維意真空 |
前***閥 | GDC-25b電磁擋板閥1套，維意真空 |
旁路閥 | GDC-25b電磁擋板閥1套，維意真空 |
限流閥 | DN63mm***套，維意真空 |
充氣閥 | Φ6mm，電磁截止閥1套，維意真空 |
放氣閥 | Φ6mm，電磁截止閥1套，維意真空 |
基片臺 | Ф100mm，高度：60～120mm可調，旋轉：0-20r/min可調，可加熱至300℃，維意真空 |
膜厚監控儀 | 進口Inficon SQM-160單水冷探頭，精度0.1?（選配） |
真空管路 | 波紋管、真空管道等1套，維意真空 |
設備機架 | 機電***體化，維意真空 |
預留接口 | CF35法蘭***個，維意真空 |
備件 | CF35銅墊圈及氟密封圈全套等，維意真空 |
4.設備主要優勢
4.1 實用性：
4.1.1 設備集成度高，結構緊湊，占地面積小，可以放置于實驗桌面上即可；
4.1.2通過更換設備上下法蘭可以實現磁控與蒸發功能的轉換，實現***機多用；
4.2 方便性：
4.2.1 設備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調試簡單，既保證了設備使用方便又保證了設備的整潔性；
4.2.2 設備可將主機置于手套箱內，水、電、氣等通過4個KF40接口接到手套箱外，與手套箱的對接靈活方便；
4.2.3 設備工作電壓為220V，整機功率小于2KW，對實驗室的供電要求低；
4.3 穩定性：
4.3.1設備主要零部件采用進口或***內知名品牌，保證了設備的質量及穩定性；
4.4 性：
4.4.1 獨立開發的PLC+觸摸屏智能操作系統，具有智能控制模式和調試維修模式；
4.4.2 控制系統具備漏氣自檢與提示功能，當設備漏氣時，系統會自動提示設備漏氣，以便用戶進行檢漏，保證設備正常穩定運行；
4.4.3 控制系統具備保養維護提示功能，當設備運行達到***定時長，系統會自動提示設備需要維護保養，以便用戶及時進行維護，保證設備正常穩定運行；
4.4.4 控制系統具備通訊故障自檢功能，系統對分子泵、濺射電源、真空規、電機、流量計等部件的通訊進行自檢，如果某個部件出現故障，可以按照系統中的各部件故障查詢辦法進行查詢，及時確認故障原因，保證設備安全；
4.4.5 控制系統具備數據記錄與導出功能，控制系統記錄設備的操作記錄及鍍膜過程數據，可以在系統中查看這些數據，也可以用U盤導出這些數據；
4.4.6 該系統具備三個等******密碼保護功能，不同等***不同使用權限，確保設備的安全性和數據的保密性；
5.設備安裝條件（用戶自備）
5.1 供電要求
5.1.1 設備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制（***火***零***地）；
5.1.2 插座距離設備尺寸≤2m；
5.1.3 其它：如用戶選配冷卻循環水機或其它選購件，用戶自行準備增配件的供電要求，不在安裝條件范圍內；
5.2供水要求
5.2.1 設備需水冷的部件有磁控靶、膜厚儀探頭（如選配膜厚控制系統）；
5.2.2 水壓0.2～0.4MPa，水溫10～25℃；
5.3安裝場地大小要求
設備尺寸為：長×寬: L60cm×W60cm，建議安裝場地尺寸≥L60cm×W80cm。
5.4 其他要求
5.4.1 環境溫度：5～40℃；
5.4.2 環境濕度：＜85%R.H；
5.4.3 室內無大量塵埃，無腐蝕性、易燃易爆氣體；
滬公網安備31011502016460號
