真空設備定制、改造與維護
價 格:詢價
產 地:更新時間:2021-03-08 15:30
品 牌:其他型 號:pld/SEY
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上海非利加實業有限公司
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真空設備定制:
脈沖激光沉積系統定制、磁控濺射系統定制、二次電子發射系數測試系統……
其他:
真空設備維護、真空設備升***改造、樣品臺改造、機械加工……
脈沖激光沉積設備(PLD)定制
我們經過多年的技術積累,充分研究了***內外PLD設備的優缺點,開發出了性能優異的PLD系統。
我們可以提供單腔室簡易PLD系統和雙腔室復雜PLD系統。
圖1.單腔室簡易型脈沖激光沉積系統(PLD)
圖2. 雙腔室脈沖激光沉積系統(PLD)
設計特點如下:
設計靈活新穎,可根據用戶需求定制系統;
自主設計的激光加熱系統,加熱溫度1400°C;
靶臺具有擺動功能,可增加靶材利用率;
可配備高壓RHEED,用于監測薄膜的生長過程;
升***空間大,集成靈活度高,可加配離子源、濺射源等;
可與其他真空設備對接;
磁控濺射靶槍定制
1.規格參數
固定法蘭 | CF100 |
真空內長度 | 283 mm(可定制) |
真空內直徑 | 88 mm |
水冷要求 | 0.5 升/分鐘 |
靶材種類 | 金屬、合金、半導體、絕緣體 |
靶材直徑 | 2" (50 mm) |
靶材厚度 | 0.5-6 mm(磁性材料≤3mm) |
磁鐵 | Sm2Co7 |
電源 | DC或RF |
擋板控制 | 手動或電機控制 |
烘烤溫度 | 250°C |
2.特點
可以集成到多種***產或進口磁控濺射設備上,靶槍的真空內長度可以定制;
安裝法蘭上帶有獨立的濺射氣體接口;
采用獨特的氣體導流罩將濺射氣體引入到靶面,可以在靶材附近實現更高的氣壓,同時也能降低腔室的氣壓;
3.用途
高校科研院所磁控濺射薄膜材料的研究與制備;
本科生或研究生的儀器教學;
二次電子發射系數測試系統定制
二次電子發射系數測試設備(SEY)用于金屬或介質材料二次電子發射系數的測試。由于涉及到微弱電信號的探測和捕捉,該設備結構復雜,測試的靈敏度和重復性要求較高,目前***外只有少數幾***公司可以研制并生產。為打破壟斷,北京匯德信科技有限公司研制開發了具有自主知識產權,專用于導體和介質材料二次電子發射系數分析測試的整套解決方案。
LEO 二次電子發射系數測試系統(SEY)
設計特點如下:
柵網的透過率大于80%,收集效率高;
采用三層柵網及半球型收集器,可測試材料的二次電子發射系數及二次電子能譜;
***次電子槍的能量范圍從50 eV到5 KeV,并可擴展到更高能量;
具備脈沖信號測量功能,可測試介質材料的二次電子系數;
樣品臺可傾斜,可測試不同入射角度下的二次電子系數;