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日本理音KC-52激光粒子計數(shù)器
價 格:詢價
產(chǎn) 地:日本更新時間:2021-02-02 09:24
品 牌:理音型 號:KC-52
狀 態(tài):正常點擊量:2031
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日本理音KC-52激光粒子計數(shù)器
日本理音KC-52激光粒子計數(shù)器
日本理音公司生產(chǎn)的KC-52激光粒子計數(shù)器,重780克,采用新式流線型機身,容許樣品空氣自由地從機身周圍流過,這樣使它能進行可靠的測量。人體功率學設計的機身具有大而容易觀察的顯示屏便于使用。
產(chǎn)品參數(shù)
日本理音KC-52激光粒子計數(shù)器
技術參數(shù)
型號 KC-52 KC-51
光學系統(tǒng) 橫向光散射方法
光源 激光二極管(波長為780nm,額定輸出為35mW)
激光產(chǎn)品等級 1類,符合IEC60825-1
光探測器 光電二極管
樣品流動速率 283L/min
粒子尺寸范圍 5個通道:≧0.30μm,≧0.50μm,≧1.0μm,≧2.0μm,≧5.0μm 用戶可選擇的通道數(shù)
3個通道數(shù):≧0.30μm,≧0.50μm,≧5.0μm(缺省設置)
2個通道數(shù):≧0.30μm,≧0.5μm
2個通道數(shù):≧0.50μm,≧5.0μm
zui大粒子數(shù)濃度 70000粒子/公升(符合損失5%),140000粒子/公升(符合損失10%)
測量時間/
測量體積 人工,任意長時間(1s~2h)
0.283L(6s),1L(21s),2.83L(1min),10L(3min,32s),28.3L(10min) 人工
0.283L(6s),1L(21s),2.83L(1min),10L(3min,32s),28.3L(10min)
計算顯示方式 累計或者差分 累計
為變換的體積設置 L,28.3L,1000L,無
連續(xù)測量數(shù) ~99 ~10
測量間隔 ~24小時(設置為測量周期) ~10秒(設置為休眠周期)
能保存的測量條件數(shù) ~3種方式 —
能保存的測量結果測量次數(shù) 大約為5000次(根據(jù)旋轉(zhuǎn)原理,取決于測量文件的大?。?~100次(在旋轉(zhuǎn)基礎上)
保存的數(shù)據(jù)格式 以TSV格式的文本文件
保存數(shù)據(jù)檢索方法 復制到SD卡
復制到已連接上的個人計算機上(KC-52被識別為一個可移動的磁盤) 下載到已連接上的個人計算機上(用專用軟件)
報警功能 監(jiān)控粒子數(shù)的上限(當計數(shù)超出預定的標準,就能聽到一個連續(xù)嘟嘟響聲)或者測量粒子數(shù)變化(嘟嘟響聲間隔是根據(jù)粒子數(shù)增大和縮小而改變) —
密碼功能 密碼保護使管理人和用戶分開訪問。 —
顯示器 3.5英寸彩色LCD面板。 3.2英寸單色LCD面板。
操作方法 觸摸板和按鈕 按鈕
使用語言 英文和日文 英文
外部接線端 USB Mini(袖珍型)B(為了連接到個人計算機或者打印機)
數(shù)據(jù)連接接線端(為了連接到多點監(jiān)控系統(tǒng)*) —
電源 AC適配器(輸入電壓:100~240V AC,50/60Hz)
鋰離子電池組(內(nèi)置式)
尺寸 304(H)×86.6(W)×45.1(D)mm
重量 大約為780g
提供的附件 AC適配器
電源線
攜帶式儀器箱
倒數(shù)時間(歸零)濾波器
儀表手握帶
等動力的探針
支架
USB電纜(A-Mini B) AC適配器
電源線
攜帶式儀器箱
倒數(shù)時間(歸零)濾波器
儀表手握帶
等動力的探針
TSV下載軟件
可選購的附件 USB熱敏打印機
打印機電纜
打印機用表格
采樣管(外徑為8mm而內(nèi)徑為6mm)
512MB SD卡
EVO K0505 第2版/第3版RP監(jiān)控器
KF-03型多點監(jiān)控軟件 USB熱式打印機
打印機電纜
打印機用表格
采樣管(外徑為8mm而內(nèi)徑為6mm)
支架
USB電纜(A-Mini)
產(chǎn)品介紹
日本理音KC-52激光粒子計數(shù)器
日本理音KC-52激光粒子計數(shù)器特點
粒子尺寸范圍:0.3,0.5,和5.0μm。
3.2英寸單色LCD面板。
儀表上設計有***個USB終端
KC-52便攜式激光粒子計數(shù)器
粒子尺寸范圍:0.3,0.5,1.0,2.0和5.0 μm。
密碼保護使管理人和用戶分開訪問。
能根據(jù)需要選擇英文顯示和日文顯示。
儀表上設計有***個USB終端,和SD磁卡插槽。
能連接到多點監(jiān)控系統(tǒng)。
這二種手提式粒子計數(shù)器都符合ISO 21501-4標準(JIS B 9921)。
能在各種污染控制應用場合使用。
絕對無塵室的污染控制。
半導體制造廠環(huán)境控制。