納米圖形發生器
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電子束曝光系統=(DY-2000A)納米通用圖形發生器+SEM
基于DY-2000A納米通用圖形發生器:
其基本結構如下:
1、(DY-2000A)圖形發生器+ SEM(掃描電鏡)
特點: 1、DY-2000A圖形發生器+SEM組建成電子束曝光系統使用原SEM工作臺。 2、無須改動電子顯微鏡,保留顯微鏡的全部功能,單場制作各種微納結構圖形和套刻工作 | |
特點: 1、(DY-2000A圖形發生器+SEM組建成電子束曝光系統)使用精密光柵工件臺 2、無須改動電子顯微鏡,保留顯微鏡的全部功能,多場制作各種微納結構圖形拼接和套刻工作
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.DY-2000A納米通用圖形發生器的硬件特點:
1. 高精度標記圖形數據采集器
2. 、快速的SCSI接口
3. 掃描頻率大于10 MHZ,傳輸數率不低于300MB/S。 高速數字信號處理器(DSP)
4. 用于X和Y方向電子束偏轉的兩套16位高速數模轉換和控制系統
5. 12 位高性能,小溫漂的ADC圖形采集系統,信噪比高。
6. 采用高性能的微處理器,信號處理能力優于30M,支撐高效,高分辨的曝光結果。
7. 采用恒溫抗干擾機箱,減少干擾,穩定性大大優于集成設備。
8. 配有5.6寸LED顯示屏,可實時、直觀的顯示曝光進程。
9. 帶有匹配的束閘輸入接口。
10. 配有適配器,使電鏡,能譜,曝光互聯和轉接互不干擾。
11. 配有22寸液晶顯示器和PC圖形控制系統***套。束閘控制:點控、線控、區域控制等
五.DY-2000A納米通用圖形發生器的軟件功能:
1. 基于Windows中文操作系統的EBL應用軟件,具有強大的圖形編輯,界面簡潔,容易操作,兼具讀寫及轉換及圖形導入等功能。
2. 具有遠程控制SEM/FIB/STEM的功能。
3. 可實現數據格式為DXF、CIF、ASCII等圖形的讀入和轉換。
4. 具有圖像縮放和重疊功能,同時可實現快速圖像采集,同步等等。
5. 可實現位移,旋轉,增益矯正刻寫場,提升曝光結果的分辨率。
6. 具有標記檢測和位置修正,用于拼接和套刻對準。
7. 具有曝光、工件臺移動和束閘通斷等功能控制。
8. 具有點控、線控、區域及非特征圖形的控制。